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GAS03系列
型號 | 工作臺面尺寸 (mm) | 基座尺寸 (mm) | 行程 (mm) | 角度(θ) | 水平負載能力 (kgf) | 反復定位精度(um) |
GAS03-1000CC | 1000×1000 | 1200×1200 | ±15x±15 | ±2° | 160 | UP:±1 P:±5 |
GAS03-1000RS | 1000×1000 | 1200×1200 | ±15x±15 | ±2° | 200 | UP:±1 P:±5 |
GAS03-1500CC | 1500×1500 | 1700×1700 | ±15x±15 | ±2° | 160 | UP:±1 P:±5 |
GAS03-1500RS | 1500×1500 | 1700×1700 | ±15x±15 | ±2° | 200 | UP:±1 P:±5 |
特性介紹 |
? 採用了劃時代性模組結構的超薄型平臺
在基座、工作臺之間的四端平面裝上組合了MINI STAGE XYθ軸滑臺組和特殊交叉滾柱軸承的模組之獨特性,實現了超薄型結構。 ? 高剛性、高精度 對于構成模組的MINI STAGE XYθ軸滑臺組的特殊交叉滾柱施加了預壓,達到高精度、高剛性的結構。 ? 超薄型、輕量化、中空結構 採用XYθ模組化結構,實現了無中座、薄而輕的機構,可作為光學式檢查裝置或導通測試時使用。 ? 潤滑系統 在各種運動軌道加入潤滑系統,確保潤滑脂補充,提高對位平臺使用的壽命及精度。 ? 尺寸齊全 適用各種機型運用 工作臺面尺寸口100mm~口1500mm,為了可以對應更大的精度荷載,可藉由增加從動模組之數量來達成。 |
產業應用介紹 |
?? 面板貼合機
?? 面板貼膜機 ?? 網版及3D網版印刷 ?? 玻璃側角及磨邊設備 ?? Wafe對位設備 ?? P.C.D曝光設備 ?? 軟體裁切設備 ?? 半導體設備 |